Visitas:0 Autor:Editor del sitio Hora de publicación: 2023-05-24 Origen:Sitio
La deposición química de vapor (CVD) es un tipo de tecnología química que utiliza principalmente uno o varios compuestos gaseosos o elementos que contienen elementos de película delgada para producir una película delgada por reacción química en la superficie del sustrato.El horno de deposición de vapor químico es una nueva tecnología para preparar materiales inorgánicos desarrollada en las últimas décadas.La deposición de vapor químico se ha utilizado ampliamente para purificar sustancias, desarrollar nuevos cristales y depositar varios materiales de película inorgánica monocristalina, policristalina o vítrea.
Principales características del horno de deposición de vapor químico:
1) A media o alta temperatura, el material sólido se deposita sobre la matriz a través de la reacción química en fase gaseosa entre los compuestos iniciales en estado gaseoso.
2) Se puede depositar bajo presión atmosférica o condiciones de vacío (deposición de presión negativa, generalmente la calidad de la película de deposición al vacío es mejor).
3) El uso de tecnología asistida por plasma y láser puede promover significativamente la reacción química, de modo que la deposición se pueda llevar a cabo a temperaturas más bajas.
4) La composición química del recubrimiento puede cambiar con el cambio de composición de la fase gaseosa, para obtener depósitos en gradiente o recubrimientos mixtos.
5) La densidad y la pureza del recubrimiento se pueden controlar.
6) Envuelva bien las piezas de revestimiento.Se puede recubrir sobre matriz de forma compleja así como sobre materiales granulares.Adecuado para recubrir una variedad de formas complejas de la pieza de trabajo.Debido a su buen rendimiento de recubrimiento, se puede recubrir con ranuras, ranuras, orificios e incluso piezas de trabajo con orificios ciegos.
7) La capa sedimentaria generalmente tiene una estructura cristalina columnar y no es resistente a la flexión, pero su estructura puede mejorarse mediante la perturbación en fase gaseosa de las reacciones químicas mediante diversas técnicas.
8) Se pueden formar revestimientos de diversos metales, aleaciones, cerámicas y compuestos a través de diversas reacciones.
