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Adecuado para la producción en masa de materiales de deposición de vapor como el óxido de silicio;Control de diferencia de temperatura de alta precisión, horno de alta eficiencia;Con sublimación de alto vacío, reacción, desengrasado, deshidratación, material de deposición de vapor, raspado de molienda automática, recolección de hornos y otras capacidades de proceso especiales.
Características del equipo:
Gran cantidad de material, alta eficiencia de producción.
Todo el proceso es completamente cerrado y funciona de forma automática para evitar que vuele polvo, y el entorno del sitio de producción está limpio y ordenado. La temperatura se controla dentro de los 1500 grados y la velocidad de calentamiento es rápida.
Puede mantener un funcionamiento estable bajo vacío.
Estructura del horno | |
Tamaño de la zona de temperatura constante | Tamaños de Φ500mm*600mm,Φ600mm*800mm,Φ700mm*1000mm,Φ800mm*1600mm, etc. (se puede personalizar según las necesidades del cliente) |
cuerpo del horno | La estructura de refrigeración por agua de doble capa interior y exterior, y la parte de contacto del agua de refrigeración hecha de acero inoxidable 304, evitan eficazmente que el cuerpo del horno utilice durante mucho tiempo el fenómeno de fuga de gas. |
Sistema de sublimación | La zona de calentamiento se compone de una bobina de inducción, corindón pesado, fieltro duro de grafito y grafito isostático.El área de recolección está compuesta por acero inoxidable 310S y una capa aislante. |
sistema de control de temperatura | Usando el modo de control centralizado de pantalla táctil PLC, el control automático, con puerto de red, puede realizar el control remoto. |
Sistema de calefacción | Se adopta calentamiento por inducción y la fuente de alimentación es una fuente de alimentación de ahorro de energía IGBT con poco ruido y aproximadamente un 15% de ahorro de energía que la fuente de alimentación de tiristor tradicional. |
Está compuesto por una bomba de vacío multietapa, una válvula de vacío, un controlador de presión y una tubería. | |
Sistema de refrigeración | Equipado con un sistema de enfriamiento cerrado, circulación interna con agua desionizada, no causará incrustaciones en la tubería del equipo, la pérdida de agua por circulación interna es pequeña, circulación externa con agua del grifo, recarga automática de agua, disipación de calor por arranque del ventilador;Buen efecto de disipación de calor, protección ambiental integrada, tamaño reducido, etc. |
El equipo se compone de sistema de sublimación, sistema de recolección, sistema de calefacción, sistema de control de temperatura, sistema de vacío, sistema mecánico y sistema de enfriamiento. | |
Ventajas
1. Estabilidad a altas temperaturas: el horno de deposición de óxido de silicio puede depositar una película de óxido de silicio a altas temperaturas, con buena estabilidad a altas temperaturas.Esto permite lograr un proceso de deposición preciso en condiciones de alta temperatura, asegurando la calidad y uniformidad de la película depositada.
2. Control preciso de la temperatura: el horno de deposición de óxido de silicio está equipado con un sistema avanzado de control de temperatura, que puede lograr un control preciso de la temperatura.Esto es muy importante para el proceso de deposición de óxido de silicio, porque el control de la temperatura afecta directamente las propiedades y calidad de las películas depositadas.
3. Alto vacío: El horno de deposición de óxido de silicio proporciona un ambiente de alto vacío, que puede eliminar eficazmente el oxígeno y otras impurezas.Esto ayuda a garantizar la pureza del proceso de deposición y evitar el impacto de las impurezas en las propiedades de la película depositada.
4. Deposición uniforme: El horno de deposición de óxido en silos puede lograr una deposición uniforme para garantizar la uniformidad de la película depositada.Esto es importante para aplicaciones que requieren una alta uniformidad, como semiconductores y optoelectrónica.
5. Flexibilidad: las estufas de deposición de óxido de silicio tienen una gran flexibilidad y pueden ajustarse y optimizarse según las diferentes necesidades.Por ejemplo, se pueden ajustar parámetros como la tasa de deposición y el control de la atmósfera para cumplir con los requisitos de diferentes materiales y aplicaciones.
En resumen, el horno de deposición de óxido de silicio tiene las ventajas de estabilidad a alta temperatura, control preciso de la temperatura, alto vacío, deposición uniforme y flexibilidad, lo que lo convierte en un dispositivo ideal para la deposición de películas de óxido de silicio.
Invitamos a los clientes a enviarnos un correo electrónico o llamarnos Para consultar nuestros productos, damos una calurosa bienvenida a clientes de todo el mundo para que visiten nuestra fábrica y nos realicen pedidos.Podemos personalizar el equipo de acuerdo con los requisitos del cliente, podemos adherir la marca del cliente y podemos otorgar a los clientes certificados personalizados.Cualquier solicitud o pregunta, no dude en contactarnos, ¡gracias!
Adecuado para la producción en masa de materiales de deposición de vapor como el óxido de silicio;Control de diferencia de temperatura de alta precisión, horno de alta eficiencia;Con sublimación de alto vacío, reacción, desengrasado, deshidratación, material de deposición de vapor, raspado de molienda automática, recolección de hornos y otras capacidades de proceso especiales.
Características del equipo:
Gran cantidad de material, alta eficiencia de producción.
Todo el proceso es completamente cerrado y funciona de forma automática para evitar que vuele polvo, y el entorno del sitio de producción está limpio y ordenado. La temperatura se controla dentro de los 1500 grados y la velocidad de calentamiento es rápida.
Puede mantener un funcionamiento estable bajo vacío.
Estructura del horno | |
Tamaño de la zona de temperatura constante | Tamaños de Φ500mm*600mm,Φ600mm*800mm,Φ700mm*1000mm,Φ800mm*1600mm, etc. (se puede personalizar según las necesidades del cliente) |
cuerpo del horno | La estructura de refrigeración por agua de doble capa interior y exterior, y la parte de contacto del agua de refrigeración hecha de acero inoxidable 304, evitan eficazmente que el cuerpo del horno utilice durante mucho tiempo el fenómeno de fuga de gas. |
Sistema de sublimación | La zona de calentamiento se compone de una bobina de inducción, corindón pesado, fieltro duro de grafito y grafito isostático.El área de recolección está compuesta por acero inoxidable 310S y una capa aislante. |
sistema de control de temperatura | Usando el modo de control centralizado de pantalla táctil PLC, el control automático, con puerto de red, puede realizar el control remoto. |
Sistema de calefacción | Se adopta calentamiento por inducción y la fuente de alimentación es una fuente de alimentación de ahorro de energía IGBT con poco ruido y aproximadamente un 15% de ahorro de energía que la fuente de alimentación de tiristor tradicional. |
Está compuesto por una bomba de vacío multietapa, una válvula de vacío, un controlador de presión y una tubería. | |
Sistema de refrigeración | Equipado con un sistema de enfriamiento cerrado, circulación interna con agua desionizada, no causará incrustaciones en la tubería del equipo, la pérdida de agua por circulación interna es pequeña, circulación externa con agua del grifo, recarga automática de agua, disipación de calor por arranque del ventilador;Buen efecto de disipación de calor, protección ambiental integrada, tamaño reducido, etc. |
El equipo se compone de sistema de sublimación, sistema de recolección, sistema de calefacción, sistema de control de temperatura, sistema de vacío, sistema mecánico y sistema de enfriamiento. | |
Ventajas
1. Estabilidad a altas temperaturas: el horno de deposición de óxido de silicio puede depositar una película de óxido de silicio a altas temperaturas, con buena estabilidad a altas temperaturas.Esto permite lograr un proceso de deposición preciso en condiciones de alta temperatura, asegurando la calidad y uniformidad de la película depositada.
2. Control preciso de la temperatura: el horno de deposición de óxido de silicio está equipado con un sistema avanzado de control de temperatura, que puede lograr un control preciso de la temperatura.Esto es muy importante para el proceso de deposición de óxido de silicio, porque el control de la temperatura afecta directamente las propiedades y calidad de las películas depositadas.
3. Alto vacío: El horno de deposición de óxido de silicio proporciona un ambiente de alto vacío, que puede eliminar eficazmente el oxígeno y otras impurezas.Esto ayuda a garantizar la pureza del proceso de deposición y evitar el impacto de las impurezas en las propiedades de la película depositada.
4. Deposición uniforme: El horno de deposición de óxido en silos puede lograr una deposición uniforme para garantizar la uniformidad de la película depositada.Esto es importante para aplicaciones que requieren una alta uniformidad, como semiconductores y optoelectrónica.
5. Flexibilidad: las estufas de deposición de óxido de silicio tienen una gran flexibilidad y pueden ajustarse y optimizarse según las diferentes necesidades.Por ejemplo, se pueden ajustar parámetros como la tasa de deposición y el control de la atmósfera para cumplir con los requisitos de diferentes materiales y aplicaciones.
En resumen, el horno de deposición de óxido de silicio tiene las ventajas de estabilidad a alta temperatura, control preciso de la temperatura, alto vacío, deposición uniforme y flexibilidad, lo que lo convierte en un dispositivo ideal para la deposición de películas de óxido de silicio.
Invitamos a los clientes a enviarnos un correo electrónico o llamarnos Para consultar nuestros productos, damos una calurosa bienvenida a clientes de todo el mundo para que visiten nuestra fábrica y nos realicen pedidos.Podemos personalizar el equipo de acuerdo con los requisitos del cliente, podemos adherir la marca del cliente y podemos otorgar a los clientes certificados personalizados.Cualquier solicitud o pregunta, no dude en contactarnos, ¡gracias!
