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Horno purificador al vacío
El horno de purificación al vacío se puede utilizar para la purificación continua de grafitización a alta temperatura de polvo de grafito, y se puede realizar la combinación del método de alta temperatura y el método químico.Adecuado para vehículos de nueva energía, semiconductores, nuevos materiales y otros campos.
USOS:
Es adecuado para el tratamiento en atmósfera de vacío de materiales de ánodos de baterías, cerámicas electrónicas, vidrio, cristal, pulvimetalurgia, nanomateriales, piezas metálicas, componentes electrónicos, grafeno, nuevos materiales y materiales en polvo, y sinterización de materiales en atmósferas inertes.
Características:
Se puede utilizar para la purificación continua de grafitización a alta temperatura de polvo de grafito, y se puede realizar la combinación de un método de alta temperatura y un método químico.
Puede realizar alimentación y descarga continua a alta temperatura, reducir el consumo de energía y acortar el ciclo de producción;
Usando calentamiento por resistencia o inducción, la temperatura puede alcanzar más de 2850 ℃;
La combinación del método de alta temperatura y el método químico puede cumplir con los requisitos del tratamiento de alta pureza.
El uso de un sistema de filtración eficiente puede capturar eficazmente el polvo y el gas corrosivo producido en el proceso de purificación;
Puede realizar alimentación y descarga continuas a alta temperatura, reducir el consumo de energía y acortar el ciclo de producción.
Principales parámetros técnicos.
Modelo | GJC-DCL-4 | GJC-DCL-10 | GJC-DCL-15 |
Salida (kg/h) | 50-90 | 100-140 | 150-200 |
Temperatura máxima (℃) | 2850 | ||
Método de calentamiento | calentamiento por inducción | ||
Método de control | · Funcionamiento manual o automático. · | ||
Capacidad de carga (L) | 10-40 | 40-120 | 120-250 |
· Diferencia de temperatura en zona de temperatura constante (℃) | ±3,5 | ±5 | ±8 |
Ambiente de trabajo del horno. | · Protección al vacío o gas inerte (presión ligeramente positiva) · | ||
Horno purificador al vacío
El horno de purificación al vacío se puede utilizar para la purificación continua de grafitización a alta temperatura de polvo de grafito, y se puede realizar la combinación del método de alta temperatura y el método químico.Adecuado para vehículos de nueva energía, semiconductores, nuevos materiales y otros campos.
USOS:
Es adecuado para el tratamiento en atmósfera de vacío de materiales de ánodos de baterías, cerámicas electrónicas, vidrio, cristal, pulvimetalurgia, nanomateriales, piezas metálicas, componentes electrónicos, grafeno, nuevos materiales y materiales en polvo, y sinterización de materiales en atmósferas inertes.
Características:
Se puede utilizar para la purificación continua de grafitización a alta temperatura de polvo de grafito, y se puede realizar la combinación de un método de alta temperatura y un método químico.
Puede realizar alimentación y descarga continua a alta temperatura, reducir el consumo de energía y acortar el ciclo de producción;
Usando calentamiento por resistencia o inducción, la temperatura puede alcanzar más de 2850 ℃;
La combinación del método de alta temperatura y el método químico puede cumplir con los requisitos del tratamiento de alta pureza.
El uso de un sistema de filtración eficiente puede capturar eficazmente el polvo y el gas corrosivo producido en el proceso de purificación;
Puede realizar alimentación y descarga continuas a alta temperatura, reducir el consumo de energía y acortar el ciclo de producción.
Principales parámetros técnicos.
Modelo | GJC-DCL-4 | GJC-DCL-10 | GJC-DCL-15 |
Salida (kg/h) | 50-90 | 100-140 | 150-200 |
Temperatura máxima (℃) | 2850 | ||
Método de calentamiento | calentamiento por inducción | ||
Método de control | · Funcionamiento manual o automático. · | ||
Capacidad de carga (L) | 10-40 | 40-120 | 120-250 |
· Diferencia de temperatura en zona de temperatura constante (℃) | ±3,5 | ±5 | ±8 |
Ambiente de trabajo del horno. | · Protección al vacío o gas inerte (presión ligeramente positiva) · | ||
