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Horno de purificación al vacío
El horno de purificación al vacío se puede utilizar para la purificación continua de polvo de grafito por grafitización a alta temperatura, y se puede realizar la combinación del método de alta temperatura y el método químico.Adecuado para vehículos de nueva energía, semiconductores, nuevos materiales y otros campos.
USOS:
Es adecuado para el tratamiento en atmósfera de vacío de materiales de ánodo de batería, cerámica electrónica, vidrio, cristal, pulvimetalurgia, nanomateriales, piezas metálicas, componentes electrónicos, grafeno, materiales nuevos y materiales en polvo, y sinterización de materiales en atmósfera inerte.
Características:
Se puede utilizar para la purificación continua de polvo de grafito por grafitización a alta temperatura, y se puede realizar la combinación del método de alta temperatura y el método químico.
Puede realizar alimentación y descarga continuas a alta temperatura, reducir el consumo de energía y acortar el ciclo de producción;
Usando resistencia o calentamiento por inducción, la temperatura puede alcanzar más de 2850 ℃;
La combinación del método de alta temperatura y el método químico puede cumplir con los requisitos del tratamiento de alta pureza.
El uso de un sistema de filtración eficiente puede capturar eficazmente el polvo, el gas corrosivo producido en el proceso de purificación;
Puede realizar alimentación y descarga continuas a alta temperatura, reducir el consumo de energía y acortar el ciclo de producción.
Principales parámetros técnicos
Modelo | GJC-DCL-4 | GJC-DCL-10 | GJC-DCL-15 |
Salida (kg/h) | 50-90 | 100-140 | 150-200 |
Temperatura máxima （℃） | 2850 | ||
Método de calentamiento | calentamiento por inducción | ||
Método de control | · Operación manual o automática ·
| ||
Capacidad de carga (L) | 10-40 | 40-120 | 120-250 |
· Diferencia de temperatura en la zona de temperatura constante (℃) | ±3,5 | ±5 | ±8 |
atmósfera de trabajo del horno | · Protección de vacío o gas inerte (presión ligeramente positiva) · | ||
Horno de purificación al vacío
El horno de purificación al vacío se puede utilizar para la purificación continua de polvo de grafito por grafitización a alta temperatura, y se puede realizar la combinación del método de alta temperatura y el método químico.Adecuado para vehículos de nueva energía, semiconductores, nuevos materiales y otros campos.
USOS:
Es adecuado para el tratamiento en atmósfera de vacío de materiales de ánodo de batería, cerámica electrónica, vidrio, cristal, pulvimetalurgia, nanomateriales, piezas metálicas, componentes electrónicos, grafeno, materiales nuevos y materiales en polvo, y sinterización de materiales en atmósfera inerte.
Características:
Se puede utilizar para la purificación continua de polvo de grafito por grafitización a alta temperatura, y se puede realizar la combinación del método de alta temperatura y el método químico.
Puede realizar alimentación y descarga continuas a alta temperatura, reducir el consumo de energía y acortar el ciclo de producción;
Usando resistencia o calentamiento por inducción, la temperatura puede alcanzar más de 2850 ℃;
La combinación del método de alta temperatura y el método químico puede cumplir con los requisitos del tratamiento de alta pureza.
El uso de un sistema de filtración eficiente puede capturar eficazmente el polvo, el gas corrosivo producido en el proceso de purificación;
Puede realizar alimentación y descarga continuas a alta temperatura, reducir el consumo de energía y acortar el ciclo de producción.
Principales parámetros técnicos
Modelo | GJC-DCL-4 | GJC-DCL-10 | GJC-DCL-15 |
Salida (kg/h) | 50-90 | 100-140 | 150-200 |
Temperatura máxima （℃） | 2850 | ||
Método de calentamiento | calentamiento por inducción | ||
Método de control | · Operación manual o automática ·
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Capacidad de carga (L) | 10-40 | 40-120 | 120-250 |
· Diferencia de temperatura en la zona de temperatura constante (℃) | ±3,5 | ±5 | ±8 |
atmósfera de trabajo del horno | · Protección de vacío o gas inerte (presión ligeramente positiva) · | ||
