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Horno de deposición de vapor

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  • ¿Cuáles son las características del horno de deposición de vapor químico?
    ¿Cuáles son las características del horno de deposición de vapor químico?
    2023-06-12
    El principal equipo utilizado en la tecnología CVD es el horno de deposición de vapor químico, que se utiliza principalmente en varios experimentos de CVD, y también se puede utilizar en la sinterización al vacío, la sinterización de protección de la atmósfera al vacío, la preparación de nanomateriales, la preparación de materiales de baterías y otros campos de investigación.quimica
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  • Las principales características del horno de deposición de vapor químico.
    Las principales características del horno de deposición de vapor químico.
    2023-05-24
    La deposición química de vapor (CVD) es un tipo de tecnología química que utiliza principalmente uno o varios compuestos gaseosos o elementos que contienen elementos de película delgada para producir una película delgada por reacción química en la superficie del sustrato.El horno de deposición de vapor químico es una nueva tecnología para preparar en
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